Base de Maquillaje Rilastil SUN SYSTEM SPF50+ Emulsión Color

La base de maquillaje fotoprotectora Rilastil Sun System SPF50+ es una emulsión con color que actúa como un foto-maquillaje de muy alta protección para rostro, cuello y escote. Su fórmula ofrece excelente cosmeticidad, difumina imperfecciones y evita la acumulación del producto gracias a sus pigmentos siliconados. Es resistente al agua (Waterproof).

Características principales:

• Muy alta fotoprotección: SPF 50+ con sistema filtrante de amplio espectro UVB-UVA.
• Formulación específica: Textura Emulsión. Tipo Sensible. Es hipoalergénica, no comedogénica y sin fragancia. Contenido: 50 ml.
• Componentes activos: Incluye extracto de té verde y aloe vera con acción antioxidante y calmante, alfa-bisabolol calmante, alantoína regeneradora y pigmentos naturales correctores.
• Ingredientes: Aqua (Water) • Diethylhexyl Carbonate • Octocrylene • Dibutyl Adipate • Methylpropanediol • Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine • Butyl Methoxydibenzoylmethane • Cyclopentasiloxane • CI 77891 (Titanium Dioxide) • Titanium Dioxide (Nano) • Silica • PEG-30 Dipolyhydroxystearate • Polyglyceryl-3 Diisostearate • Euphorbia Cerifera Cera [Euphorbia Cerifera (Candelilla) Wax] • CI 77492 (Iron Oxides) • Hydrogenated Dimer Dilinoleyl/ Dimethylcarbonate Copolymer • Tocopheryl Acetate • Aloe Barbadensis Leaf Juice • Disteardimonium Hectorite • Phenoxyethanol • Magnesium Sulfate • Dimethicone • Ethylhexylglycerin • Panthenol • Glycerin • Propylene Carbonate • Bisabolol • Aluminum Hydroxide • Disodium EDTA • Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil • Caprylyl Glycol • Decylene Glycol • Sodium Lauroyl Glutamate • Camellia Sinensis Leaf Extract • Lysine • Magnesium Chloride • Potassium Sorbate • Sodium Benzoate • Citric Acid • CI 77491 (Iron Oxides) • CI 77499 (Iron Oxides).

Marca: Rilastil
Género: Mujer
Categoría: Producto de Parafarmacia y Dermocosmética.