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Descripción

Mascarilla para el peloMAGNET post-technical treatment, Mascarilla para el peloDescubre el poder restaurador de MAGNET post-technical treatment de Revlon, un tratamiento imprescindible para reforzar la estructura interna del cabello dañado tras cualquier servicio capilar. Gracias a su avanzada fórmula, este producto actúa profundamente, renovando la apariencia de tu cabello y logrando una textura radiante y saludable.
Después de su aplicación, notarás una mejora significativa en la calidad de tu cabello, especialmente tras procesos de aclarado. Además, te ofrece una eficaz protección contra los radicales libres y un brillo excepcional.
MAGNET post-technical treatment incorpora la innovadora tecnología BondIN SYSTEM™, que no solo refuerza y repara los enlaces capilares existentes, sino que también previene, protege y cuida tu cabello desde el interior. Con su escudo 360, este tratamiento reduce el impacto de los agresores externos, asegurando que tu melena luzca saludable más allá de lo que se ve a simple vista. ¡Dale a tu cabello el cuidado que merece!
  • Marca: Revlon
  • Contenido: 500 ml
  • Tipo: Cabello TeñidoCabello con Mechas
  • Texturas: Crema
  • Ingredientes: Aqua/Water/Eau, Cetearyl Alcohol, Steartrimoniumchloride, Glycerin, Dicetyldimoniumchloride, Parfum (Fragrance), Isopropyl Alcohol, Butylene Glycol, Dicaprylyl Carbonate, Ethylhexylglycerin, Hydroxypropylgluconamide (And) Hydroxypropylammonium Gluconate, Keratin Amino Acids, Lauryl Alcohol, Lauryl Glucoside, Maleic Acid, Moringa Oleifera Seed Extract, Myristyl Alcohol, Panthenol, Polyquaternium-28, Polyquaternium-37, Sodium Hydroxide, Tocopheryl Acetate, Limonene, Linalool, Phenoxyethanol. B01436.

EAN: 8432225138527

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Opiniones sobre Revlon Magnet Post-Technical Treatment

5.00

Basado en 1 reseñas

Rebeca Madureira Rivero

Cliente verificado

hace 11 meses

Mascarilla muy buena

Muy buena

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Entrega prevista: 28 mar - 31 mar

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Revlon Magnet Post-Technical Treatment

Revlon

Disponible

SKU: B1B42J4TT7

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Entrega prevista: 28 de marzo - 31 de marzo

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